説明
技術的なパラメーター
詳細
真空環境で加熱する装置は,金属ケーシングまたは石英ガラスカバーで密閉された炉室内の高真空ポンプシステムに配管されている.
炉室真空度は最大133 × (10-2 ~ 10-4) Pa.
炉内の加熱システムは,抵抗線(タングステン線など)による直接加熱のほか,高周波誘導加熱もできる.
最高温度は約3000℃に達する.
主にセラミック焼成,真空製錬,電気真空部品の脱ガス,アニール,金属部品のろう付け,セラミックと金属の封着に使用される.
メリット
1.加熱プロセス中のワーク表面の酸化と脱炭が完全に除去され,劣化層のないきれいな表面が得られる. これにより,片面のみを研磨する工具(例えば,溝表面の脱炭層が研磨後に刃先に直接露出するツイストドリルなど)の切削性能が向上する.
2.環境を汚染しない,3つの工程の廃棄物の処理の必要はない.
3.炉の温度決定と監視の精度が大幅に向上する. 熱電対の指示値と炉の温度温度± 1.5℃に.しかし,炉内の多数のワークピースの異なる部分間の温度差が大きく,もし希ガスの強制循環に使用すると,まだ± 5℃の温度差の範囲で制御することができる.
4.高度なメカトロニクス. 温度測定と制御精度の向上に基づいて,ワークの動き,空気圧調整,電力調整などを事前にプログラムして設定し,焼入れと焼き戻しを段階的に行うことができる.
5.消費量は塩浴炉よりも大幅に低くなる. 現代の先進の真空炉加熱室は,高品質の断熱材で作られた断熱壁とバリアを使用しており,電気加熱エネルギーを加熱室に高度に集中させることができ,省エネ効果は注目に値します.
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